流場密度的變化與介質(zhì)折射率有線性關系，密度的變化直接反映為折射率變化。折射率的變化將引起光線的偏折，從而引起像面照度的變化，形成不規(guī)則的明暗條紋。利用這一原理進行折射率變化的測試即為紋影技術(shù)，該技術(shù)可用于觀察氣體介質(zhì)、液體及透明固體材料中由于火花放電、爆炸、流動、受力所引起的物理運動過程。
紋影儀(光學流場顯示儀)是采用紋影方法顯示透明介質(zhì)密度和溫度分布在介質(zhì)中折射率變化的通用光學流場顯示儀器，為研究分層流、多項流、超聲速流、傳熱與傳質(zhì)，自然與強迫的燃燒、火焰、爆炸，等離子體、某些化學反應等學科以及沖擊波陣面在透明介質(zhì)中的傳播、高壓力下自由表面微物質(zhì)噴射、界面上波系狀況、界面不穩(wěn)定性、高電壓下橋絲的熔化過程和放電弱沖擊波以及航空航天等工程領域研究提供了科學的流場密度變化觀測手段。產(chǎn)品通過配套圖像采集設備為科學研究提供了理想真實的流場密度變化流動圖像記錄。
WKJWY-200聚焦紋影儀能夠排除常規(guī)陰影儀和紋影儀對這個測試光路中流場信息進行積分顯示，其僅顯示感興趣的截面的流場信息。通過對多個截面進行聚焦紋影流場顯示，還能達到三維流場顯示的目的。
